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[行业动态] 靶材提纯方法

靶材提纯方法在VLSI的制造过程中重复使用的溅射过程是一种物理气相沉积（PVD）技术，并且是制备电子薄膜材料的主要技术之一。欧凯的目标指出，溅射过程中离子源产生的离子被加速并在高真空中积聚，形成高速能量离子束，轰击固体表面，并且在离子之间发
发布时间：2019-11-25 点击次数：107